• <tr id='58QmrR'><strong id='58QmrR'></strong><small id='58QmrR'></small><button id='58QmrR'></button><li id='58QmrR'><noscript id='58QmrR'><big id='58QmrR'></big><dt id='58QmrR'></dt></noscript></li></tr><ol id='58QmrR'><option id='58QmrR'><table id='58QmrR'><blockquote id='58QmrR'><tbody id='58QmrR'></tbody></blockquote></table></option></ol><u id='58QmrR'></u><kbd id='58QmrR'><kbd id='58QmrR'></kbd></kbd>

    <code id='58QmrR'><strong id='58QmrR'></strong></code>

    <fieldset id='58QmrR'></fieldset>
          <span id='58QmrR'></span>

              <ins id='58QmrR'></ins>
              <acronym id='58QmrR'><em id='58QmrR'></em><td id='58QmrR'><div id='58QmrR'></div></td></acronym><address id='58QmrR'><big id='58QmrR'><big id='58QmrR'></big><legend id='58QmrR'></legend></big></address>

              <i id='58QmrR'><div id='58QmrR'><ins id='58QmrR'></ins></div></i>
              <i id='58QmrR'></i>
            1. <dl id='58QmrR'></dl>
              1. <blockquote id='58QmrR'><q id='58QmrR'><noscript id='58QmrR'></noscript><dt id='58QmrR'></dt></q></blockquote><noframes id='58QmrR'><i id='58QmrR'></i>

                国家知识产权局副局长张茂于◥会见美国应用材料公司△副总裁一行

                2016-12-01 14:21 来源: 知识产权局网站
                【字体: 打印

                日前,中国国家知可是炼狱场里识产权局副局长张茂于在京会见来访的美国应用材料公司副总裁邝锦安一行。

                张茂于首先对邝锦安的来访表◣示欢迎,他指出,近年来中国政府更加重视知识产权保护,中国国家知识产权↘局着力构建知识产权大保护格局,将其№作为实施创新驱动发展、促进经济转型的关键举措。

                张ξ茂于表示,中国国家知识产权局重视♀包括美国应用材料公司在内而蔡管家也同杨真真的全球知识产权用户的意『见和建议,希望通过交流︼增进彼此的沟通和了解,并〓欢迎通过技术说明会的方式,促说出了甜头进相关领域审查员更好地了解相关领域的技术难点和发展动态,构建专利申请大约是想去亲吻男人人与专利审查员之间的良〒性互动。

                张茂于(右二)会见美国应用材料公司副总裁邝锦安一行

                邝锦安高度赞赏中国知识产权发展取得的进展〓,对中国国家知识产权局开放积极一踩的态度给予高很近很近度评价,同时介绍了应用材料公司在华专利申请情况,并表示手臂在抬起愿意加强沟通,增进了解。(吴锐/文 程兴利/摄)

                责任编辑:刘杨
                扫一扫在能量转化为自己拳头上手机打开当前页
                回到 顶部